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高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜

發(fā)布時(shí)間:2019-11-15 09:48:15         點(diǎn)擊:5590

連續(xù)X射線譜

       X射線光管利用由高壓產(chǎn)生的X射線束作為激發(fā)源振奮起來。高能入射粒子或電子與靶元素中束縛力較弱的電子發(fā)生隨機(jī)碰撞后講理論,電子減速鍛造,功能損失非常激烈,損失的能量將以光子發(fā)射的形式出現(xiàn),從而產(chǎn)生連續(xù)的X射線譜進一步意見,稱為韌致輻射增幅最大。

       XRF是一項(xiàng)非破壞性的元素定性和定量分析的技術(shù),其原理是根據(jù)被入射X光提升到激發(fā)態(tài)的樣品生產能力,在回復(fù)到基態(tài)時(shí)標準,所放射的X光熒光,具有因元素種類和含量不同而有不同的波長(zhǎng)X光射線的特性。當(dāng)X光照射樣品時(shí)即將展開,有兩種主要的現(xiàn)象發(fā)生大幅增加,即:散射現(xiàn)象(Scattering)和光電吸收(Photoelectric Absorption)。

高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜

高壓產(chǎn)生特征與連續(xù)X射線譜

特征X射線譜

       產(chǎn)生特征X射線所需要的最小能量等于相應(yīng)殼層電子的結(jié)合能傳承,也稱為吸收邊能量等特點,只有當(dāng)光管超出臨界激發(fā)電壓的狀態(tài)下,靶的特征線才會(huì)出現(xiàn)多種。

        電壓太高時(shí)將進一步,電子穿透深度過(guò)大,靶材的自吸收將會(huì)變得十分顯著發展成就。故而只有當(dāng)光管電壓等于臨界激發(fā)電壓的3-5倍時(shí)成就,可得到最佳的特征譜線強(qiáng)度。這對(duì)于選擇靶線激發(fā)輕元素分析具有指導(dǎo)意義開展面對面。

       X射線譜由連續(xù)譜和標(biāo)識(shí)譜兩部分組成效高性,標(biāo)識(shí)譜重疊在連續(xù)譜背景上,連續(xù)譜是由于高速電子受靶極阻擋而產(chǎn)生的軔致輻射自動化,其短波極限λ0由加速電壓V決定:λ 0 = hc /( ev )為普朗克常數(shù),e為電子電量高品質,c為真空中的光速不折不扣。標(biāo)識(shí)譜是由一系列線狀譜組成,它們是因靶元素內(nèi)層電子的躍遷而產(chǎn)生資源優勢,每種元素各有一套特定的標(biāo)識(shí)譜高效利用,反映了原子殼層結(jié)構(gòu) 的特征。同步輻射源可產(chǎn)生高強(qiáng)度的連續(xù)譜X射線估算,現(xiàn)已成為重要的X射線源數字化。

 

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