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       光譜儀的測(cè)量和控制組合在一個(gè)裝置內(nèi)全面闡釋，簡(jiǎn)稱MC。測(cè)量和控制單元是光電直讀光譜儀的一個(gè)重要部件預期。在樣品分析之前競爭力，由操作程序編制合金分析文件，并選好分析參數(shù)科技實力。

       樣品分析過程中處理，由MC裝置控制整個(gè)測(cè)量過程的動(dòng)作、順序和時(shí)間在此基礎上。由上位計(jì)算機(jī)和MC裝置之間進(jìn)行數(shù)據(jù)交換和處理助力各行，并在屏幕上顯示出本次的分析結(jié)果。因此自主研發，我們稱MC裝置是光譜儀和上位計(jì)算機(jī)之間連接的橋梁確定性。本章重點(diǎn)介紹光譜儀光電流轉(zhuǎn)換的測(cè)量以及數(shù)字化處理技術(shù)。MC裝置在火花直讀光譜儀中完成的主要功能如下:

直讀光譜儀的MC裝置含義

       (1)控制火花光源激發(fā)樣品損耗，并產(chǎn)生各個(gè)元素的特征譜線講故事。(當(dāng)采用雙樣品架)可選擇樣品架和光源的操作參數(shù)。光源操作參數(shù)有3個(gè): .

       1)氬氣沖洗(沖洗時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)性能穩定。清洗樣品表面并在燃燒腔內(nèi)形成控制氣氛全面革新。

       2)預(yù)燃(預(yù)燃時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)。此階段產(chǎn)生大電流易于樣品表面蒸發(fā)情況正常，以減少材質(zhì)差異行業分類，提高- - 致性，并將難激發(fā)的樣品進(jìn)行預(yù)處理落實落細。

       3)曝光階段(曝光時(shí)間由操作參數(shù)設(shè)置)相結合。火花光源用穩(wěn)定的小電流將蒸發(fā)出來的元素原子激發(fā)製高點項目，使其產(chǎn)生特征光譜更多的合作機會，這一階段也稱測(cè)量階段。MC內(nèi)單板計(jì)算機(jī)對(duì)PMT的光電流采集和數(shù)字化處理認為，并傳送到上位計(jì)算機(jī)服務好。

       (2)在樣品激發(fā)前和激發(fā)時(shí)控制光譜儀操作順序。

       (3)模/數(shù)轉(zhuǎn)換反應能力，輸送已數(shù)字化的信號(hào)到上位計(jì)算機(jī)共謀發展。

       (4)對(duì)PMT(光電倍增管)提供可調(diào)整的高壓供電，PMT輸出光電流的測(cè)量結構重塑、存儲(chǔ)和數(shù)字化處理聽得懂。MC裝置輸入220VAC或選用110VAC。